公开/公告号CN102711909B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-09-16
原文格式PDF
申请/专利权人 奇诺格有限责任公司;
申请/专利号CN201080062216.0
申请日2010-12-22
分类号A61N1/40(20060101);A61N1/44(20060101);H05H1/24(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人曾立
地址 德国杜德施塔特
入库时间 2022-08-23 09:29:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-16
授权
授权
2012-12-26
实质审查的生效 IPC(主分类):A61N1/40 申请日:20101222
实质审查的生效
2012-10-03
公开
公开
机译: 用于处理晶片边缘的等离子体处理设备,用于等离子体处理的绝缘板,用于等离子体处理的底部电极,对晶片边缘进行等离子体处理的方法以及使用该方法制造半导体器件的方法
机译: 介电阻挡放电等离子体处理的电极布置及表面等离子体处理方法
机译: 介电阻挡放电等离子体处理的电极布置和表面等离子体处理方法。