用于深紫外线光刻的层状结构以及形成光刻层状结构的方法

摘要

一种用于深紫外线光刻的层状结构以及形成光刻层状结构的方法，其中包括：提供一第一体积的有机抗反射化学品；提供一第二体积的光-酸发生元化学品，第二体积是第一体积的0.01%～30%，且光-酸发生元化学品的含量在有机抗反射化学品与光-酸发生元化学品的总量的1wt%至15wt%范围之外；基本同时混合第一体积的有机抗反射化学品和第二体积的光-酸发生元化学品，以得到一增强抗反射化学品，其酸水平得到提高，其中，增强抗反射化学品酸水平的增加减少了后续在抗反射涂层(ARC)的界面上旋涂深紫光致抗蚀剂层的酸损的影响。