公开/公告号CN102870030B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-04-08
原文格式PDF
申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;
申请/专利号CN201180020318.0
申请日2011-04-02
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人邱军
地址 德国上科亨
入库时间 2022-08-23 09:24:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-04-08
授权
授权
2013-02-20
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 17/06 申请日:20110402
实质审查的生效
2013-01-09
公开
公开
机译: 成像光学系统,具有这种光学系统的用于微光刻的投射照明单元,具有这种投射照明单元的微结构部件的制造方法,通过该制造方法制造的微结构部件以及这种光学系统的用途
机译: 成像光学系统,用于产生投影曝光设备的方法以及使用这种类型的用于微光刻的投影曝光设备的微结构元件以及这种成像光学系统
机译: 使用成像光学系统的曝光方法,具有成像光学系统的曝光设备,使用该曝光设备的微器件制造方法以及成像光学系统