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成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备

摘要

一种成像光学系统(1),其具有多个反射镜(M1-M6),该多个反射镜(M1-M6)将物平面(5)中的物场(3)成像至像平面(9)中的像场(7),该成像光学系统包括第一部分物镜(11)和第二部分物镜(13),第一部分物镜(11)将物场成像至中间像(15)上,第二部分物镜(13)将中间像成像至像场上,并包括物场和像场之间的成像光线(17)的光路中的倒数第二个反射镜(M5)、以及该光路中的最后一个反射镜(M6)。这里,倒数第二个反射镜(M5)将中间像成像至另一中间像(19)上,且最后一个反射镜将该另一中间像成像至像场上。

著录项

  • 公开/公告号CN102870030B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-04-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;

    申请/专利号CN201180020318.0

  • 发明设计人 H-J.曼;D.谢弗;

    申请日2011-04-02

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人邱军

  • 地址 德国上科亨

  • 入库时间 2022-08-23 09:24:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-04-08

    授权

    授权

  • 2013-02-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 17/06 申请日:20110402

    实质审查的生效

  • 2013-01-09

    公开

    公开

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