公开/公告号CN115403696A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-29
原文格式PDF
申请/专利权人 达兴材料股份有限公司;
申请/专利号CN202210585560.2
申请日2022-05-26
分类号C08F220/24;C08F220/28;G03F7/004;G03F7/11;G03F7/20;
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人肖靖泉
地址 中国台湾台中市
入库时间 2023-06-19 17:46:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-29
公开
发明专利申请公布
机译: 用于洗涤光刻胶图案并在光刻胶图案上形成保护层的组合物
机译: 用于涂层型偏振膜保护层的光敏树脂组合物,使用该组合物形成的保护层,带有保护层的涂层型偏振膜,以及包括涂层型偏振膜的显示装置
机译: 用于在微机械硅元件的湿碱蚀刻过程中保护互补金属氧化物半导体电路的保护层包括等离子体沉积的含碳层或经过等离子体处理的光刻胶层