一种自调平等离子增强化学气相沉积装置

摘要

本发明公开了一种自调平等离子增强化学气相沉积装置，涉及半导体技术领域。该自调平等离子增强化学气相沉积装置包括沉积腔室、加热板和绝缘球。加热板和绝缘球均设置于沉积腔室内，沉积腔室具有一底板，底板与加热板平行间隔设置，绝缘球可滚动地设置于底板和加热板之间，加热板能够在绝缘球的作用下相对于底板自适应运动，以保证加热板位于水平面上。与现有技术相比，本发明提供的自调平等离子增强化学气相沉积装置由于采用了设置于沉积腔室内的加热板以及滚动设置于底板和加热板之间的绝缘球，所以能够在高温沉积过程中实现加热板的自动调平，以保证加热板的水平度，提高膜层沉积的均匀性，保证产品质量。