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周玉琴; 周炳卿; 谷锦华; 朱美芳; 刘丰珍;
中国可再生能源学会;
四川大学;
硅薄膜; 生长机制; 计算模拟; 化学气相沉积;
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备的炉膛和闪光灯退火硅薄膜的比较研究
机译:等离子体增强热丝化学气相沉积法生长碳纳米膜和纳米点的比较研究
机译:等离子体增强热丝化学气相沉积法制备的纳米结构氮化碳膜的形貌和场发射特性
机译:通过等离子体种植的微晶硅薄膜增强化学气相沉积 - 生长机制和粒度控制
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:用射频等离子体增强热丝化学气相沉积法制备取向碳纳米管阵列的超级电容特性
机译:等离子体增强热丝化学气相沉积制备高取向碳纳米管;应用物理快报
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法低功率制备高导电掺磷N型微晶氢化硅薄膜的工艺
机译:用热丝化学气相沉积法沉积可流动的含硅薄膜的方法
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