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公开/公告号CN115117155A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-09-27
原文格式PDF
申请/专利权人 中国电子科技集团公司第二十四研究所;
申请/专利号CN202110919735.4
发明设计人 谭开洲;肖添;张嘉浩;杨永晖;蒋和全;李儒章;张培健;钟怡;李孝权;王鹏飞;王鹏;王育新;唐昭焕;裴颖;李光波;
申请日2021-08-11
分类号H01L29/40;H01L29/78;H01L21/336;
代理机构上海光华专利事务所(普通合伙);
代理人李铁
地址 400060 重庆市南岸区南坪花园路14号
入库时间 2023-06-19 16:58:07
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-27
公开
发明专利申请公布
机译: 制造双栅场效应晶体管器件的方法和这种双栅场晶体管器件
机译: 采用相邻的非对称有源栅/伪栅宽度布局的场效应晶体管(FET)器件
机译: 利用蚀刻和再填充技术制造包括场效应晶体管和场控晶闸管的垂直沟道掩埋栅场控制器件的方法
机译:电阻栅场效应晶体管:一种基于金属-绝缘体-金属-氧化物栅叠层的新型陡坡器件
机译:垂直型自对准非对称双栅金属氧化物半导体场效应晶体管的制备与表征
机译:利用Ar等离子体刻蚀的器件隔离工艺制造高k /金属栅MoS2场效应晶体管
机译:用于BV和导通电阻表征的GaN器件上的场板长度变化
机译:砷化铟镓电阻栅电荷耦合器件。
机译:环境对背栅WSe2场效应晶体管电特性的影响
机译:通过具有非对称晶胞的双栅栅场效应晶体管结构进行等离子体太赫兹检测
机译:高电阻率砷化镓的表面场效应器件研究。第二部分:表面场效应晶体管