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一种散射屏参数优化方法、散射屏及可读存储介质

摘要

本发明公开了一种散射屏参数优化方法、散射屏及可读存储介质,该方法应用于光场显示中,实现所述光场显示的设备包括投影仪阵列和散射屏,所述散射屏被分为N个区域,所述N个区域设置为非均匀偏折角,N为正整数;所述方法包括:构建关于亮度差异变量的代价函数;所述像素点数量与所述N个区域的N个偏折角相关;根据预设优化算法对所述代价函数进行优化,确定所述代价函数的极小值;根据所述代价函数的极小值确定优化后的偏折角;其中,所述极小值对应的N个偏折角为所述优化后的偏折角。上述方案用于缓解现有技术中存在的光场显示中,不同观察区域能够观察到的投影画面亮度不均匀的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN114114676A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都理想境界科技有限公司;

    申请/专利号CN202010862348.7

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2020-08-25

  • 分类号G02B27/00(20060101);G03B21/60(20140101);G03B21/602(20140101);G03B35/20(20210101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610041 四川省成都市高新区世纪城路1129号天府软件园A区8栋1层

  • 入库时间 2023-06-19 14:20:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    公开

    发明专利申请公布

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