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公开/公告号CN114009125A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 高通股份有限公司;
申请/专利号CN202080038015.0
发明设计人 蔡明明;T·刘;R·N·查拉;林静;韩军生;
申请日2020-04-29
分类号H04W72/04(20090101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人赵林琳;傅远
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 14:05:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-02-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H04W72/04 专利申请号:2020800380150 申请日:20200429
实质审查的生效
机译: 具有射束调整功能,射束扫描装置具有火平衡平面的半透明板
机译: 在相同的射束电压下具有最大增益和最大功率输出的行波管
机译: 通过高能射束通过选择性熔化或选择性烧结粉末的粉末来分层生产零件的方法
机译:使用50 kV可变形状射束系统对多道曝光中的抗蚀剂加热进行仿真和测量
机译:未对准四极杆聚焦通道中空间电荷为主的射束的动力学平衡
机译:卡勒流形上射束的平衡度量和咀嚼稳定性
机译:用液体全射光聚合物中的单束曝光记录噪声光栅
机译:非线性射束动力学及其在以空间电荷为主的射束,双RF系统和准等时存储环中的应用。
机译:平衡逆转录病毒剪接的遗传选择:涉及第二步的新调控可通过多嘧啶束的过渡来介导。
机译:通过点曝光电子束诱导的沉积选择性固定单个纳米颗粒
机译:ImpaC射束和射束外;离子注入后的g因子和预平衡效应