公开/公告号CN113415934A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-21
原文格式PDF
申请/专利权人 镇江润晶高纯化工科技股份有限公司;
申请/专利号CN202110632609.0
申请日2021-06-07
分类号C02F9/10(20060101);C07C209/84(20060101);C07C211/63(20060101);
代理机构31374 上海创开专利代理事务所(普通合伙);
代理人谢伟峰
地址 212000 江苏省镇江市镇江新区孩溪路8号
入库时间 2023-06-19 12:40:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-07-21
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C02F 9/10 专利申请号:2021106326090 申请公布日:20210921
发明专利申请公布后的驳回
机译: 从光阻显影废液中回收处理四烷基氢氧化铵溶液的装置
机译: 含有四甲基氢氧化铵(TMAH)的光刻胶显影液中的回收方法和系统
机译: 正型光致抗蚀剂用四甲基氢氧化铵和三甲基羟乙基氢氧化铵的显影液