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一种适用于不均匀破碎岩体的新异的光面爆破方法

摘要

本发明公开了一种适用于不均匀破碎岩体的新异的光面爆破方法,针对使用传统的直线型光爆孔布孔方式,孔内同一炸药分布特征,会使围岩表面出现凹凸不平问题,破损工程;依据抗滑桩与终了境界面空间关系,围岩岩层、岩性或破碎、激励裂隙分布特征或构筑物强度或破损空间分布特征,调整设计轮廓直线布孔,为一类似正弦曲线上布置光爆孔,孔内有针对性岩体破碎程度、软弱程度布药装药结构特征,从而提高光爆面的平整度。本专利具有如下优点:(1)减少每次爆破危害正常有效抵抗线长度,并降低震动;(2)光面爆破形成的光爆面相对平整,有利于提高支挡结构的安全性和美观性;(3)减少爆渣量并减少超挖,使爆破后的岩体稳定性更好,减小支护成本;(4)避免工人直接接触危岩,提高工程的安全性和施工效率。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-27

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):F42D 1/00 专利申请号:2021108239877 申请公布日:20210917

    发明专利申请公布后的驳回

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