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在子采样引起失真下借由低相干光干涉技术确定机体与物体表面的间隔距离的方法及系统

摘要

本发明描述了一种用于确定物体或材料与物体或材料的加工刀具或测量仪器之间的间隔距离的方法和系统,包括:产生低相干光辐射的测量光束,导引该测量光束射向物体,并导引自物体反射或漫射的测量光束沿第一入射方向射向光干涉传感器机构;产生低相干光辐射的参考光束,并导引参考光束相对于测量光束的第一入射方向以预设入射角度沿第二入射方向射向光干涉传感器机构;使测量光束和参考光束叠加在传感器机构的公共入射区域上;检测测量光束与参考光束之间的干涉条纹图案在入射区域上的位置;以及基于干涉条纹图案沿着入射区域的照射轴的位置,确定测量光路与参考光路之间的光程差,这表示以下二者之差:(a)加工刀具或测量仪器与物体表面之间的当前间隔距离,(b)预定标称间隔距离,其中,传感器机构包括沿着照明轴的光电探测器布置,并以此方式控制入射角度,即干涉条纹图案的空间频率大于光电探测器的空间频率。

著录项

  • 公开/公告号CN112923856A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾迪奇股份公司;

    申请/专利号CN202011431703.1

  • 申请日2020-12-07

  • 分类号G01B11/02(20060101);G01B9/02(20060101);B23K26/70(20140101);

  • 代理机构11569 北京高沃律师事务所;

  • 代理人孙玲

  • 地址 意大利特兰托莱维科泰尔梅巴尔科11号

  • 入库时间 2023-06-19 11:19:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/02 专利申请号:2020114317031 申请日:20201207

    实质审查的生效

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