表面保护薄膜用基材、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜

摘要

提供可良好地抑制光学检査时的漏光、着色及彩虹样不均的表面保护薄膜用基材。本发明的表面保护薄膜用基材的正面方向的相位差R0(550)与极角45°和方位角45°方向的相位差R45(550)满足下述的关系：R45(550)‑R0(550)≤13(nm)。一个实施方式中，表面保护薄膜用基材中，正面方向的相位差R0(550)为20nm以下。

说明书

技术领域

本发明涉及表面保护薄膜用基材、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜。

背景技术

对于光学薄膜(例如，偏光板、包含偏光板的层叠体)，为了在直到应用该光学薄膜的图像显示装置被实际使用为止的期间保护该光学薄膜(最终为图像显示装置)，以可剥离的方式贴合有表面保护薄膜。在实用中，光学薄膜/表面保护薄膜的层叠体贴合于显示单元来制作图像显示装置，并在贴合有该层叠体的状态下将图像显示装置供于光学试验(例如，点亮试验)，在其后的适当的时刻将表面保护薄膜剥离去除。表面保护薄膜代表性的是具有具有作为基材的树脂薄膜和粘合剂层。利用以往的表面保护薄膜，有时在光学检査时发生漏光、着色、彩虹样不均等，成为光学检査的精度降低的原因。其结果，尽管图像显示装置自身没有问题，在上市前的光学检査中有时也被判断为不良，由此，存在自图像显示装置的制造到上市为止的效率降低的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-190406号公报

发明内容

本发明是为了解决上述以往的问题而作出的，其主要目的在于，提供可良好地抑制光学检査时的漏光、着色及彩虹样不均的表面保护薄膜用基材。

对于本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材，其正面方向的相位差R0(550)与极角45°和方位角45°方向的相位差R45(550)满足下述的关系：

R45(550)-R0(550)≤13(nm)。

一个实施方式中，上述表面保护薄膜用基材中，上述正面方向的相位差R0(550)为20nm以下。

一个实施方式中，上述表面保护薄膜用基材的总透光率为80％以上、雾度为1.0％以下。

一个实施方式中，上述表面保护薄膜用基材包含选自聚碳酸酯、聚酯、环烯烃系树脂、丙烯酸系树脂及纤维素树脂中的至少1种树脂。一个实施方式中，上述表面保护薄膜用基材包含具有脂环式结构或具有显示负固有双折射的芳香族环结构的树脂。

根据本发明的另一方面，提供一种表面保护薄膜。该表面保护薄膜包含上述表面保护薄膜用基材和粘合剂层。

根据本发明的又一方面，提供一种带表面保护薄膜的光学薄膜。该带表面保护薄膜的光学薄膜包含：光学薄膜、和以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的上述表面保护薄膜。

根据本发明的实施方式，通过将正面方向的相位差R0(550)与极角45°和方位角45°方向的相位差R45(550)的差设为规定值以下，从而能够实现可良好地抑制光学检査时的漏光、着色及彩虹样不均的表面保护薄膜用基材。特别是在大型的图像显示装置的光学检査中，能够显著地抑制端部的漏光。

具体实施方式

以下，对本发明的优选的实施方式进行说明，但本发明不限定于这些实施方式。

A.表面保护薄膜用基材

对于本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材，正面方向的相位差R0(550)与极角45°和方位角45°方向的相位差R45(550)满足下述的关系：

R45(550)-R0(550)≤13(nm)。

[R45(550)-R0(550)]优选为10nm以下、更优选为5nm以下、进一步优选为3nm以下、特别优选为1nm以下。另一方面，[R45(550)-R0(550)]优选为-5nm以上、更优选为-3nm以上、进一步优选为-1nm以上。[R45(550)-R0(550)]的绝对值越小越优选。[R45(550)-R0(550)]为这样的范围时，能够实现可良好地抑制光学检査时的漏光、着色及彩虹样不均的表面保护薄膜用基材，特别是在大型的图像显示装置的光学检査中，能够显著地抑制端部的漏光。例如，光学检査通过一边对显示单元上贴合有光学薄膜/表面保护薄膜的层叠体的图像显示装置进行辊输送，一边用照相机(例如，安装有偏光滤色器的照相机)对每个图像显示装置进行拍摄来检查图像显示装置的点亮缺陷等。此处，图像显示装置为大型的情况下，照相机的视角变得非常大。对于图像显示装置的长边方向的视角，1个实施方式中，为45°以上，另一实施方式中，为60°以上，又一实施方式中，为70°以上，又一实施方式中，可以为82°以上。根据本发明的实施方式，即使在这样视角非常大的情况下，也能够显著地抑制端部(或边缘部)的漏光。应用本发明的实施方式的表面保护薄膜用基材(实质上为包含该基材的表面保护薄膜)的图像显示装置的尺寸优选为25英寸以上、更优选为35英寸以上、进一步优选为40英寸以上。图像显示装置越大型，本发明的效果(特别是防止端部的漏光)越显著。进而，根据本发明的实施方式，图像显示装置越为高精细，检査精度的提高越显著。需要说明的是，本说明书中“R0(λ)”为23℃下以波长λnm的光测定的正面方向的相位差。对于R0(λ)，将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，通过式：Re＝(nx-ny)×d来求出。因此，“R0(550)”为23℃下以波长550nm的光测定的正面方向的相位差。此处，“nx”为面内的折射率为最大的方向(即，慢轴方向)的折射率，“ny”为在面内与慢轴正交的方向(即，快轴方向)的折射率。另外，“R45(λ)”为23℃下以波长λnm的光测定的极角45°和方位角45°方向的相位差。此处，方位角为将图像显示装置的长边方向设为0°时的方向。本说明书中提及角度时，包含相对于基准方向而言顺时针和逆时针这两个方向。

表面保护薄膜用基材的正面方向的相位差R0(550)优选为20nm以下、更优选为15nm以下、进一步优选为10nm以下、特别优选为5nm以下。正面方向的相位差R0(550)越小越优选，其下限理想的为0nm，例如可以为0.3nm。R0(550)为这样的范围时，将使用了本发明的表面保护薄膜用基材的表面保护薄膜供于图像显示装置的光学检査的情况下，能够良好地抑制漏光、着色及彩虹样不均。其结果，能够显著地提高图像显示装置的光学检査的精度，能够提高自图像显示装置的制造到上市为止的效率。这样的正面方向的相位差R0(550)可以通过将构成基材的材料和拉伸条件适当地组合而设定来实现。

表面保护薄膜用基材的极角45°和方位角45°方向的相位差R45(550)优选为30nm以下、更优选为20nm以下、进一步优选为12nm以下、特别优选为7nm以下。R45(550)为这样的范围时，变得容易实现上述期望的[R45(550)-R0(550)]，其结果，在大型的图像显示装置的光学检査中，能够显著地抑制端部的漏光。这样的R45(550)与R0(550)同样地，可以通过将构成基材的材料和拉伸条件适当地组合而设定来实现。

表面保护薄膜用基材的厚度方向相位差Rth(550)优选为-90nm～+90nm、更优选为-50nm～+50nm、进一步优选为-20nm～+20nm。“Rth(λ)”为23℃下以波长λnm的光测定的厚度方向的相位差。对于Rth(λ)，将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时，通过式：Rth＝(nx-nz)×d来求出。因此，“Rth(550)”为23℃下以波长550nm的光测定的厚度方向的相位差。此处，“nz”为厚度方向的折射率。

表面保护薄膜用基材可以表现出面内相位差(正面方向的相位差)根据测定光的波长而变大的逆色散波长特性，可以表现出面内相位差根据测定光的波长而变小的正波长色散特性，也可以表现出面内相位差基本不因测定光的波长而变化的平坦的波长色散特性。

表面保护薄膜用基材的总透光率优选为80％以上、更优选为85％以上、进一步优选为90％以上、特别优选为95％以上。进而，表面保护薄膜用基材的雾度优选为1.0％以下、更优选为0.7％以下、进一步优选为0.5％以下、特别优选为0.3％以下。总透光率或雾度为这样的范围时，将使用了本发明的表面保护薄膜用基材的表面保护薄膜供于图像显示装置的光学检査的情况下，能够确保优异的视觉辨识性。其结果，能够显著地提高图像显示装置的光学检査的精度。

表面保护薄膜用基材在MIT试验中的直到断裂为止的弯折次数优选为500次以上、更优选为700次以上、进一步优选为900次以上、特别优选为1100次以上。即，表面保护薄膜用基材优选可具有优异的挠性或耐弯折性。为这样的构成时，能够得到贴合时及剥离时的操作性优异、并且裂纹得以抑制的表面保护薄膜。根据本发明的实施方式，能够兼顾这样优异的挠性或耐弯折性和如上所述的非常小的正面方向的相位差R0(550)。需要说明的是，MIT试验可以依据JIS P 8115来进行。

表面保护薄膜用基材的吸水率优选为5％以下、更优选为4％以下、进一步优选为2％以下。另外，表面保护薄膜用基材在40℃及92％RH的环境下放置24小时后的透湿度优选为400g/m

表面保护薄膜用基材的玻璃化转变温度(Tg)优选为145℃以上、更优选为160℃以上。Tg为这样的范围时，可以在制作表面保护薄膜时通过将粘合剂层直接涂布于表面保护薄膜用基材来形成。换言之，不需要将形成于规定的薄膜上的粘合剂层转印至表面保护薄膜用基材。因此，能够以非常优异的制造效率制作表面保护薄膜。另一方面，表面保护薄膜用基材的Tg的上限例如可以为200℃。

表面保护薄膜用基材的弹性模量优选在100mm/分钟的拉伸速度下为50MPa～350MPa。弹性模量为这样的范围时，能够得到输送性及操作性优异的表面保护薄膜。根据本发明的实施方式，能够兼顾优异的弹性模量(强度)和如上所述的优异的挠性或耐弯折性(柔韧性)。需要说明的是，弹性模量依据JIS K 7127：1999来测定。

表面保护薄膜用基材的拉伸伸长率优选为70％～200％。拉伸伸长率为这样的范围时，有在输送中不易断裂的优点。需要说明的是，拉伸伸长率依据JIS K 6781来测定。

表面保护薄膜用基材只要可具有如上所述的期望的特性，则可以由任意适当的材料构成。表面保护薄膜用基材代表性的是可以由树脂薄膜构成。作为构成薄膜的树脂，例如，可列举出聚芳酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚芳基醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚酯酰亚胺、聚乙烯醇、聚富马酸酯、聚醚砜、聚砜、环烯烃系树脂(例如，降冰片烯系树脂)、聚碳酸酯、聚酯碳酸酯、纤维素树脂(例如，三乙酸纤维素)、丙烯酸系树脂及聚氨酯。这些树脂可列单独使用，也可以组合使用。一个实施方式中，上述的树脂可以具有脂环式结构或显示负固有双折射的芳香族环结构。作为脂环式结构，例如，可列举出内酯环结构、戊二酸酐结构、戊二酰亚胺结构、N-取代马来酰亚胺结构、马来酸酐结构。作为显示负固有双折射的芳香族环结构，例如，可列举出芴结构、萘结构、蒽结构、咔唑结构、苯二甲酰亚胺结构。具有这些结构的树脂的、得到的薄膜的双折射小，能够抑制进行了薄膜化时的相位差。

表面保护薄膜用基材例如可以为直接使用了由上述树脂形成的薄膜的薄膜。作为由树脂形成薄膜的方法，可采用任意适当的成形加工法。作为具体例，可列举出压缩成形法、传递成形法、注射成形法、挤出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP成形法、浇铸涂布法(例如，流延法)、压延成形法、热压法等。优选挤出成形法或浇铸涂布法。这是因为能够提高得到的薄膜的平滑性、得到良好的光学均匀性。成形条件可以根据使用的树脂的组成、种类、对表面保护薄膜用基材期望的特性等来适宜设定。

另外，例如，表面保护薄膜用基材可以为对由上述树脂形成的薄膜实施拉伸处理而成的薄膜。薄膜的拉伸方法代表性的为双轴拉伸，更详细而言，为逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸。这是因为可得到正面方向的相位差R0(550)小的表面保护薄膜用基材。逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸代表性的是使用拉幅拉伸机来进行。因此，薄膜的拉伸方向代表性的为薄膜的长度方向及宽度方向。

拉伸温度可根据对表面保护薄膜用基材期望的R0(550)、R45(550)及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸倍率等而变化。具体而言，拉伸温度相对于薄膜的玻璃化转变温度(Tg)优选为Tg+5℃～Tg+50℃、更优选为Tg+10℃～Tg+40℃。通过以这样的温度进行拉伸，本发明的实施方式中可得到具有适当的特性的表面保护薄膜用基材。

拉伸倍率可根据对表面保护薄膜用基材期望的R0(550)、R45(550)及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸温度等而变化。采用双轴拉伸(例如，逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，第1方向(例如长度方向)的拉伸倍率和第2方向(例如宽度方向)的拉伸倍率优选其差尽可能小，更优选实质上相等。为这样的构成时，可得到R0(550)、R45(550)小的表面保护薄膜用基材。采用双轴拉伸(例如逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，对于拉伸倍率，第1方向(例如长度方向)及第2方向(例如宽度方向)分别可以为例如1.1倍～3.0倍。

拉伸速度优选为10％/秒以下、更优选为7％/秒以下、进一步优选为5％/秒以下、特别优选为2.5％/秒以下。通过以这样小的拉伸速度进行拉伸，可得到R0(550)及R45(550)小的表面保护薄膜用基材。拉伸速度的下限例如可以为1.2％/秒。若拉伸速度过小，则有时生产率变得不实用。需要说明的是，采用双轴拉伸(例如逐次双轴拉伸或同时双轴拉伸)的情况下，第1方向(例如长度方向)的拉伸速度和第2方向(例如宽度方向)的拉伸速度优选其差尽可能小，更优选实质上相等。为这样的构成时，能够进一步减小R0(550)及R45(550)。

表面保护薄膜用基材可以直接使用市售的树脂薄膜，也可以通过将市售的树脂薄膜供于如上所述的拉伸处理来形成。

表面保护薄膜用基材的厚度代表性的是为10μm～100μm、优选为20μm～70μm。

表面保护薄膜用基材如上所述具有正面方向的相位差，因此可具有慢轴。表面保护薄膜用基材(实质上为表面保护薄膜)应用于图像显示装置的情况下，表面保护薄膜用基材的慢轴方向相对于图像显示装置的长边方向优选为30°以下、更优选为15°以下、进一步优选为5°以下、特别优选为2°以下。为这样的构成时，能够良好地抑制光学检査时的漏光、着色及彩虹样不均，特别是在大型的图像显示装置的光学检査中，能够显著地抑制端部的漏光。需要说明的是，慢轴是在实质上存在正面方向的相位差的情况下表现出的，在正面方向的相位差接近0而实质上不存在的情况下，慢轴的影响变小。

B.表面保护薄膜

上述A项中记载的表面保护薄膜用基材可以适合用于表面保护薄膜。因此，本发明的实施方式也包含表面保护薄膜。本发明的实施方式的表面保护薄膜包含上述A项中记载的表面保护薄膜用基材和粘合剂层。

作为形成粘合剂层的粘合剂，可采用任意适当的粘合剂。作为粘合剂的基础树脂，例如，可列举出丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、有机硅系树脂、氨基甲酸酯系树脂、橡胶系树脂。这样的基础树脂例如记载于日本特开2015-120337号公报或日本特开2011-201983号公报中。这些公报的记载作为参考而被援引至本说明书中。从耐化学药品性、用于防止浸渍时的处理液的浸入的密合性、对被粘物的自由度等观点出发，优选丙烯酸系树脂。作为粘合剂中可包含的交联剂，例如，可列举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物。粘合剂例如可以包含硅烷偶联剂。粘合剂的配混处方可以根据目的及期望的特性来适当地设定。

粘合剂层的储能模量优选为1.0×10

粘合剂层的厚度优选为1μm～60μm、更优选为3μm～30μm。若厚度过薄，则粘合性变不充分，有时气泡等会进入粘合界面。若厚度过厚，则变得容易发生粘合剂渗出等不良情况。

在实用中，直到实际使用表面保护薄膜(即，贴合于光学薄膜或图像显示装置)为止的期间，在粘合剂层表面以可剥离的形式临时粘接有分隔件。通过设置分隔件，从而可保护粘合剂层，并且将表面保护薄膜卷取成卷状。作为分隔件，例如，可列举出利用有机硅系剥离剂、氟系剥离剂、长链烷基丙烯酸酯系剥离剂等剥离剂进行了表面涂布的塑料(例如，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯、聚丙烯)薄膜、无纺布或纸等。分隔件的厚度可以根据目的来采用任意适当的厚度。分隔件的厚度例如为10μm～100μm。

C.带表面保护薄膜的光学薄膜

上述B项中记载的表面保护薄膜用于在直到实际使用光学薄膜(最终为图像显示装置)为止的期间保护该光学薄膜。因此，本发明的实施方式也包含带表面保护薄膜的光学薄膜。本发明的实施方式的带表面保护薄膜的光学薄膜包含：光学薄膜、和以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的上述B项中记载的表面保护薄膜。

光学薄膜可以为单一薄膜，也可以为层叠体。作为光学薄膜的具体例，可列举出偏光件、相位差薄膜、偏光板(代表性的为偏光件与保护薄膜的层叠体)、触摸面板用导电性薄膜、表面处理薄膜、以及根据目的将它们适当地层叠而成的层叠体(例如，防反射用圆偏光板、触摸面板用带导电层的偏光板、带相位差层的偏光板、棱镜片一体型偏光板)。

光学薄膜包含偏光件的情况下，偏光件的吸收轴方向与表面保护薄膜用基材的慢轴方向所成的角度优选为0°±30°或90°±30°、更优选为0°±15°或90°±15°、进一步优选为0°±5°或90°±5°。该角度为这样的范围时，能够良好地抑制光学检査时的漏光、着色及彩虹样不均，特别是在大型的图像显示装置的光学检査中，能够显著地抑制端部的漏光。

实施例

以下，通过实施例具体地对本发明进行说明，但本发明不限定于这些实施例。实施例中的各特性的测定方法如下。需要说明的是，只要没有特殊说明，实施例中的“份”及“％”就为重量基准。

(1)R0(550)、厚度方向相位差Rth(550)及R45(550)

将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材切成长度4cm及宽度4cm，作为测定试样。对该测定试样，使用Axometrics公司制、制品名“Axoscan”测定R0(550)、厚度方向相位差Rth(550)及R45(550)。测定波长为550nm，测定温度为23℃。

(2)彩虹样不均

将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材配置在交叉棱镜状态的2张偏光板间。此时，以表面保护薄膜用基材的长度方向与一个偏光板的透过轴方向平行的方式配置表面保护薄膜用基材。在该状态下从下侧偏光板的下侧照射荧光灯的光，通过目视观察彩虹样不均的有无。按照以下的基准进行评价。

○：未观察到彩虹样不均

△：稍微观察到彩虹样不均

×：显著地观察到彩虹样不均

(3)亮度

借助粘合剂将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材贴合于市售的液晶电视(LG公司制、49英寸、制品名“49SJ8000”)的视觉辨识侧偏光板上。即，贴合包含实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材的表面保护薄膜。在该状态下使输入图像整面呈白色显示而点亮。使用TOPCON TECHNOHOUSE CORPORATION制制品名“SR-UL2”对经点亮的液晶电视的亮度进行测定。另外，以与视觉辨识侧偏光板成为交叉棱镜这样的轴配置将日东电工株式会社制“REGQ1298DUHC3”贴附于SL-UL2的透镜部，测定亮度。测定的方向为正面方向、极角45°方位角45°方向、及极角45°方位角135°方向合计3处。

(4)端部的漏光

借助粘合剂将实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材贴合于市售的液晶电视(LG公司制、49英寸、制品名“49SJ8000”)的视觉辨识侧偏光板上。即，贴合包含实施例及比较例中得到的表面保护薄膜用基材的表面保护薄膜。在该状态下使输入图像整面呈白色显示而点亮。透过偏光太阳镜对点亮中的液晶电视进行观察，对端部的漏光按以下的基准进行评价。需要说明的是，贴合于太阳镜的偏光板的吸收轴为眼睛的上下方向。

○：未观察到漏光

△：稍微观察到漏光

×：漏光显著

<实施例1>

使市售的聚碳酸酯树脂薄膜(三菱化学株式会社制、商品名“DURABIO T7450A”)在105℃下进行5小时真空干燥后，使用具备单螺杆挤出机(东芝机械株式会社制、料筒温度230℃)、T模(宽度1700mm、温度230℃)、浇铸辊(温度120℃)及卷取机的薄膜制膜装置，制作厚度40μm的薄膜，作为表面保护薄膜用基材。该薄膜显示平坦的波长色散特性。得到的表面保护薄膜用基材的R0(550)为5.6nm、Rth(550)为11.5nm、R45(550)为6.02nm、[R45(550)-R0(550)]为0.42nm。将得到的表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<实施例2>

调整挤出机的挤出量及浇铸辊的速度，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材(厚度15μm)。得到的表面保护薄膜用基材的R0(550)为11.2nm、Rth(550)为17.8nm、R45(550)为11.9nm、[R45(550)-R0(550)]为0.7nm。将得到的表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<实施例3>

使市售的聚碳酸酯树脂(Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制商品名“Iupilon H-4000”在120℃下进行5小时真空干燥后，使用具备单螺杆挤出机(东芝机械株式会社制、料筒温度255℃)、T模(宽度1700mm、温度255℃)、浇铸辊(温度130℃)及卷取机的薄膜制膜装置，制作厚度40μm的薄膜，作为表面保护薄膜用基材。得到的表面保护薄膜用基材的R0(550)为2.6nm、Rth(550)为43.9nm、R45(550)为15.1nm、[R45(550)-R0(550)]为12.5nm。将得到的表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<实施例4>

使用下述的原料制作聚合物合金薄膜。

使用原料

FDPM：9,9-双(2-甲氧基羰基乙基)芴[9,9-双(2-羧基乙基)芴(或芴-9,9-二丙酸)的二甲基酯]、除将日本特开2005-89422号公报的实施例1记载的丙烯酸叔丁酯变更为丙烯酸甲酯[37.9g(0.44摩尔)]以外同样地合成所得的化合物

BPEF：9,9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴、Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制

EG：乙二醇

PC：双酚A型聚碳酸酯树脂、Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制“Iupilon H-4000”

在FDPM 1.00摩尔、BPEF 0.80摩尔、EG 2.20摩尔中加入作为酯交换催化剂的乙酸锰·四水合物2×10

使得到的聚合物合金的颗粒在80℃下进行5小时真空干燥后，使用具备单螺杆挤出机(东芝机械株式会社制料筒温度255℃)、T模(宽度1700mm、温度255℃)、浇铸辊(温度125℃)及卷取机的薄膜制膜装置，制作厚度160μm的聚合物合金薄膜。对该薄膜沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸温度为170℃，拉伸速度在长度方向及宽度方向均为1.4％/秒。如此操作，得到表面保护薄膜用基材(厚度40μm)。得到的表面保护薄膜用基材的R0(550)为20nm、Rth(550)为85nm、R45(550)为28.1nm、[R45(550)-R0(550)]为8.1nm。将得到的表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<实施例5>

直接使用市售的三乙酸纤维素(TAC)薄膜(FUJIFILM Corporation制、制品名“TD80UL”)，作为表面保护薄膜用基材(厚度80μm)。表面保护薄膜用基材的R0(550)为4.9nm、Rth(550)为52.6nm、R45(550)为8.7nm、[R45(550)-R0(550)]为3.8nm。将表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<实施例6>

使用市售的环烯烃系树脂薄膜(Zeon Corporation制、制品名“ZF14”)，除此以外，与实施例1同样地操作，得到表面保护薄膜用基材(厚度40μm)。得到的表面保护薄膜用基材的R0(550)为2.0nm、Rth(550)为7.9nm、R45(550)为2.7nm、[R45(550)-R0(550)]为0.7nm。将得到的表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<实施例7>

使市售的丙烯酸类树脂(奇美实业株式会社制、商品名“CM-205”)在100℃下进行5小时真空干燥后，使用具备单螺杆挤出机(东芝机械株式会社制、料筒温度230℃)、T模(宽度1700mm、温度230℃)、浇铸辊(温度100℃)及卷取机的薄膜制膜装置，制作厚度160μm的薄膜。对该薄膜沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸温度为146℃，拉伸速度在长度方向及宽度方向均为7.1％/秒。如此操作，得到表面保护薄膜用基材(厚度40μm)。得到的表面保护薄膜用基材的R0(550)为0.5nm、Rth(550)为-39nm、R45(550)为10.1nm、[R45(550)-R0(550)]为9.6nm。将得到的表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<比较例1>

将拉伸温度设为167℃，除此以外，与实施例4同样地操作，得到表面保护薄膜用基材(厚度40μm)。得到的表面保护薄膜用基材的R0(550)为32nm、Rth(550)为91nm、R45(550)为45.1nm、[R45(550)-R0(550)]为13.1nm。将得到的表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<比较例2>

使厚度为80μm，除此以外，与实施例3同样地操作，得到表面保护薄膜用基材(厚度80μm)。得到的表面保护薄膜用基材的R0(550)为5.6nm、Rth(550)为102.6nm、R45(550)为19.4nm、[R45(550)-R0(550)]为13.8nm。将得到的表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

<比较例3>

直接使用市售的超高相位差聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱化学株式会社制、商品名“Diafoil MRF38CK”)，作为表面保护薄膜用基材(厚度38μm)。表面保护薄膜用基材的R0(550)为2950nm、Rth(550)为8989.4nm、R45(550)为3445.5nm、[R45(550)-R0(550)]为495.5nm。将表面保护薄膜用基材供于上述(2)～(4)的评价。将结果示于表1。

[表1]

<评价>

根据表1明确可知，本发明的实施例的表面保护薄膜用基材能防止彩虹样不均，总透光率优异，并且抑制了端部的漏光。需要说明的是，对于着色，也确认了得到与彩虹样不均及漏光同样的结果。

本发明的表面保护薄膜用基材适合用于表面保护薄膜。本发明的表面保护薄膜用于在直到实际使用光学薄膜(最终为图像显示装置)为止的期间保护该光学薄膜。通过使用本发明的表面保护薄膜用基材及表面保护薄膜，能够显著地提高图像显示装置的光学检査的精度。