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还原装置及应用于还原装置的料斗

摘要

一种还原装置,其具有一腔体,其中,该还原装置进一步包括一滑动装设于所述腔体内的一料斗。本发明还涉及一种应用于该还原装置的料斗。本发明所采用的料斗可便于装载还原物料。

著录项

  • 公开/公告号CN101994006B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-02-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200910189715.5

  • 发明设计人 任建勋;杨康定;陈群;

    申请日2009-08-21

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100084 北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-02-13

    授权

    授权

  • 2011-11-23

    发明专利申请更正 卷:27 号:13 页码:扉页 更正项目:申请人|地址|共同申请人 误:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司|518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 正:清华大学| 100084北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室|鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 申请日:20090821

    发明专利更正

  • 2011-11-23

    发明专利公报更正 卷:27 号:13 IPC(主分类):C22B0005000000 更正项目:申请人|地址|共同申请人 误:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司|518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 正:清华大学| 100084北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室|鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 申请日:20090821

    发明专利更正

  • 2011-05-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):C22B 5/00 申请日:20090821

    实质审查的生效

  • 2011-03-30

    公开

    公开

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