法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-07-14
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B29/46 专利申请号:2020114288452 申请公布日:20210212
发明专利申请公布后的驳回
机译: 表面改性单晶SiC衬底,具有外延生长层的单晶SiC衬底,半导体芯片,用于物种衬底的单晶SiC生长和单晶生长层多晶SiC衬底的制造方法
机译: 将纳米结构和/或金层附着到衬底表面的方法,包括该衬底的衬底具有附着的纳米结构和/或金层。
机译: 将纳米结构和/或金层附着到衬底表面的方法,包括该衬底的衬底具有附着的纳米结构和/或金层。