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基于光场高阶空间关联的单次曝光X射线衍射成像装置及方法

摘要

一种基于光场高阶空间关联的单次曝光X射线衍射成像装置及方法,装置包括X射线源、分束装置、参考臂光阑,待测物体、X射线面阵探测器和计算机。X射线源发出的光经过分束装置,分为参考光与探测光,参考光沿参考臂光轴方向经过参考臂光阑,光强空间分布被X射线参考臂面阵探测器记录,探测光沿探测臂光轴方向通过待测物体,光强空间分布被X射线探测臂面阵探测器记录。计算机与X射线面阵探测器相连,具有对采集到的光强空间分布进行空间关联运算的程序。本发明基于光场的高阶空间关联特性,其数据采集和处理过程不同于传统的时间序列关联成像计算方法,应用于X射线关联成像中,能极大的提高图像质量和成像速度,并减少样品辐射损伤。

著录项

  • 公开/公告号CN112198176A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202011014594.3

  • 发明设计人 谈志杰;喻虹;朱瑞国;韩申生;

    申请日2020-09-24

  • 分类号G01N23/20(20180101);

  • 代理机构31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张宁展

  • 地址 201800 上海市嘉定区清河路390号

  • 入库时间 2023-06-19 09:29:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-02

    授权

    发明专利权授予

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