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一种高渗透率高过滤精度莫来石晶须陶瓷过滤膜及其制备方法

摘要

一种高渗透率高过滤精度莫来石晶须陶瓷过滤膜及其制备方法,包括碳化硅陶瓷支撑体层和涂覆在支撑体层表面的莫来石晶须分离膜层,所述支撑体层由包括重量百分数为80~90%碳化硅及10~20%结合剂的原料、重量为原料的20~30%的造孔剂和重量为原料的2~10%的矿化剂制备而成,所述分离膜层由包括重量百分数为30~50%硅源、50~70%铝源和添加量为铝源和硅源质量之和的0.1~1%的分散剂、60~150%的溶剂、0.1~10%的催化剂制备而成,所述结合剂为重量百分比为星子高岭土62~78%和α‑Al2O3 22~38%球磨混合制得。本发明的陶瓷过滤膜的渗透率高、过滤速度快,过滤精度高。

著录项

  • 公开/公告号CN112156656A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉理工大学;

    申请/专利号CN202010954130.4

  • 发明设计人 徐晓虹;刘星;吴建锋;

    申请日2020-09-11

  • 分类号B01D67/00(20060101);B01D69/10(20060101);B01D71/02(20060101);C04B35/565(20060101);C04B35/622(20060101);C04B35/63(20060101);C04B38/06(20060101);C04B41/00(20060101);C04B41/45(20060101);C04B41/85(20060101);

  • 代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人郑勤振

  • 地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号

  • 入库时间 2023-06-19 09:23:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-05

    授权

    发明专利权授予

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