用于清洗经历抛光的硅片的清洗装置、方法及相关设备

摘要

本发明实施例公开了一种用于清洗经历抛光的硅片的清洗装置、方法及相关设备，所述清洗装置包括承载单元、清洗液供应单元和清洗液喷射单元，其中，所述承载单元用于对所述硅片进行承载，所述清洗液供应单元用于将清洗液供应至所述清洗液喷射单元，所述清洗液喷射单元设置在与所述承载单元承载的硅片相对的位置处以将所述清洗液供应单元供应的清洗液喷射至所述硅片，其中，所述清洗液包括酸性液和碱性液，并且所述清洗液供应单元构造成将所述酸性液和所述碱性液以交替的方式反复供应至所述清洗液喷射单元。