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一种具有双凹陷AlGaN势垒层的AlGaN/GaN异质结场效应晶体管

摘要

本发明公开了一种具有双凹陷AlGaN势垒层的AlGaN/GaN异质结场效应晶体管,结构自下而上包括:半绝缘衬底、AlN成核层、GaN缓冲层和AlGaN势垒层,其中,所述AlGaN势垒层的上表面的两侧分别设有源电极和漏电极、源电极和漏电极之间且靠近源电极处设有栅电极,在栅电极的源侧区域一部分AlGaN势垒层向下凹陷形成凹陷栅源势垒层区域,在栅电极的漏侧区域一部分AlGaN势垒层向下凹陷形成凹陷栅漏势垒层区域。本发明的有益之处在于:(1)跨导饱和区扩展;(2)击穿电压提高;(3)频率特性改善;(4)微波输出特性增强。

著录项

  • 公开/公告号CN107017293A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-08-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201710242816.9

  • 申请日2017-04-14

  • 分类号H01L29/778(20060101);H01L29/06(20060101);H01L29/20(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构11368 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘玲玲

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2023-06-19 02:58:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20170414

    实质审查的生效

  • 2017-08-04

    公开

    公开

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