首页> 中国专利> III族氮化物半导体激光元件、制作III族氮化物半导体激光元件的方法、评价III族氮化物半导体激光元件的光谐振器用的端面的方法、评价刻划槽的方法

III族氮化物半导体激光元件、制作III族氮化物半导体激光元件的方法、评价III族氮化物半导体激光元件的光谐振器用的端面的方法、评价刻划槽的方法

摘要

在III族氮化物的c轴向m轴的方向倾斜的基板的半极性面上具有能够减少反馈光的扰乱的激光谐振器的III族氮化物半导体激光器中,在角度ALPHA为71度以上且79度以下的范围时,角度α1为10度以上且25度以下的范围,角度β1为0度以上且5度以下的范围。在与外延面靠近的第一面附近的第一端面中,在m-n面内,第一法线矢量ENV1与c+轴矢量VC+所成的角度具有接近角度α1的值(例如10度以上且25度以下的范围)。在基板背面附近的第一端面中,在m-n面内,第二法线矢量ENV2与c+轴矢量VC+所成的角度具有接近角度β1的值(例如0度以上且5度以下的范围)。

著录项

  • 公开/公告号CN104737394A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-06-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友电气工业株式会社;

    申请/专利号CN201380053924.1

  • 发明设计人 高木慎平;

    申请日2013-07-24

  • 分类号

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人权太白

  • 地址 日本大阪府大阪市

  • 入库时间 2023-12-18 09:38:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-08

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01S5/343 申请公布日:20150624 申请日:20130724

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-07-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/343 申请日:20130724

    实质审查的生效

  • 2015-06-24

    公开

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