激光退火提高铁磁/反铁磁双层膜交换偏置场热稳定性方法

摘要

本发明公开了一种激光快速退火提高铁磁/反铁磁双层膜交换偏置场热稳定性的方法，它包括以下步骤：(1)利用PVD方法在衬底上沉积铁磁层和反铁磁层，得铁磁/反铁磁双层膜；(2)利用连续波激光或脉冲激光作为光源，对双层膜进行激光快速退火，输出功率2～10W，扫描速度5～20cm/s。本发明方法可应用于基于铁磁/反铁磁双层膜的巨磁阻电阻传感器、磁性随机存取存储器、磁记录器件等，具有方法简单、效率高的优点。