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高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法

摘要

本发明提供一种高反射率高带宽的亚波长光栅反射镜的制作方法,包括如下步骤:步骤1:取一衬底;步骤2:在该衬底上依次生长材料层、介质层和金属层,在介质层和金属层界面处能够激发表面等离子体模式;步骤3:采用感应耦合等离子体刻蚀的方法或者剥离技术,依次将金属层、介质层和材料层刻蚀,形成周期性的条形光栅结构,完成器件的制作。

著录项

  • 公开/公告号CN102109625A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201110049965.6

  • 申请日2011-03-02

  • 分类号G02B5/18(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-12-18 02:43:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-24

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G02B5/18 申请公布日:20110629 申请日:20110302

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2011-12-21

    著录事项变更 IPC(主分类):G02B5/18 变更前: 变更后: 申请日:20110302

    著录事项变更

  • 2011-08-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20110302

    实质审查的生效

  • 2011-06-29

    公开

    公开

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