首页> 中国专利> 用于非破坏性地确定薄膜中元素的分布轮廓的方法和系统

用于非破坏性地确定薄膜中元素的分布轮廓的方法和系统

摘要

一种确定薄膜中元素的分布轮廓的方法。所述方法包括激发沉积于第一薄膜中的元素的电子能量以获取与所述电子能量相关联的第一能谱,并从所述第一能谱中去除背景能谱。移除所述背景值产生经处理的能谱。所述方法进一步包括通过能与第一薄膜比较的薄膜中的元素的已知模拟分布轮廓来将所述经处理的能谱与模拟能谱相匹配。基于将所述经处理的能谱与从模拟能谱组中选出的模拟能谱相匹配来获取所述第一薄膜中的元素的分布轮廓。

著录项

  • 公开/公告号CN101523171A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-09-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 瑞沃瑞公司;

    申请/专利号CN200680033273.X

  • 申请日2006-06-23

  • 分类号G01J3/45;

  • 代理机构北京润平知识产权代理有限公司;

  • 代理人周建秋

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 22:40:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-03-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01J3/45 公开日:20090902 申请日:20060623

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-10-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-02

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号