法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-11-02
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B29/00 授权公告日:20090701 终止日期:20100816 申请日:20050816
专利权的终止
2009-07-01
授权
授权
2008-01-02
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-11-07
公开
公开
机译: 磁记录介质用硅质抛光剂及硅的制备方法及磁记录介质用硅质载体的制造方法
机译: 制造用于磁记录介质的磁盘基体的方法,用于磁记录介质的磁盘基体,制造磁记录介质的方法,磁记录介质和磁记录装置
机译: 用于磁记录介质的玻璃基质,磁记录介质,用于磁记录介质的玻璃基质的制造方法以及用于磁记录介质的玻璃基质的制造装置