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第1章 绪论
1.1 磁存储的发展历史及现状
1.2 磁存储介质的发展
第2章 薄膜的制备及性能的表征
2.1 薄膜的制备
2.2 薄膜性能的表征
第3章 热应力对bct-FeCo薄膜磁性能的影响研究
3.1 CrRu薄膜的制备
3.2 Rh过渡层的制备
3.3 (002)取向的Rh层上外延生长FeCo薄膜
3.4 FeCo薄膜中热应力的引入
3.5 本章小结
何志童;
兰州交通大学;
机译:用于垂直磁记录介质的钴铁氧体薄膜的制备和性能评估
机译:FePt纳米薄膜颗粒的制备有望用作下一代磁记录介质材料
机译:垂直磁记录介质上沉积在Pt-Ta底层上的溅射沉积Ba-铁氧体薄膜的制备和记录特性
机译:交流磁力显微镜高分辨率检测垂直磁记录介质薄膜垂直磁记录介质薄膜的Z字形磁化反转边界
机译:具有高垂直各向异性的磁性薄膜,用于磁记录介质应用。
机译:低温键合法制备的LNOI / Si杂化晶片铌酸锂薄膜层中的残余应力
机译:磁记录介质溅射SmCo5薄膜的制备与表征
机译:蒸发和高温反应制备scD2 / Cr薄膜应力的演变
机译:变更影响研究支持程序,变更影响研究支持设备和变更影响研究支持方法
机译:变更影响研究支持变更影响研究支持计划以及变更影响研究支持设备
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