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光掩模微尘清除器及光掩模微尘清除程序

摘要

一种光掩模微尘清除器及应用其的光掩模微尘清除程序。此光掩模微尘清除器置于一光掩模微尘检测器前方,且至少包括一喷气构件与一支撑构件,其中喷气构件可朝光掩模的表面喷气以清除微尘,且支撑构件用以支撑此喷气构件。另光掩模微尘清除程序在光掩模上检测到微尘后,启动置于光掩模微尘检测器前的光掩模微尘清除器,再令光掩模经过微尘清除器的喷气构件而送入光掩模微尘检测器中,以在检测前清除微尘。

著录项

  • 公开/公告号CN1673869A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 力晶半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN200410031738.0

  • 发明设计人 林柏青;杨育正;

    申请日2004-03-24

  • 分类号G03F7/20;G06F17/00;

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陈小雯

  • 地址 台湾省新竹市

  • 入库时间 2023-12-17 16:29:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-11-18

    发明专利申请公布后的驳回

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2005-11-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-09-28

    公开

    公开

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