非着陆制作工艺及光学逼近修正光掩模图形的产生方法

摘要

一种非着陆制作方法,其对导线的电连接区作光学逼近修正,增加此区的面积以提升导线与介层窗/接触窗的对准裕度。此制作工艺中对导线的光掩模图形的光学逼近修正步骤如下:首先定出导线图形的电连接区,再进行各项同性放大或朝导线外侧延伸,而成为一放大区。接着从放大区中扣除与导线图形重叠的部分,再扣除超出该导线图形,且与邻近的其他导电层图形过于接近的部分。然后将经过删减的放大区与原导线图形合并,即得到光学逼近修正的导线光掩模图形。