非着陆制作工艺及光学邻近效应修正光掩模图形的制作方法

摘要

一种非着陆制作方法，其对导线的电连接区作光学邻近效应修正，增加此区的面积以提升导线与介层窗/接触窗的对准裕度。此制作工艺中对导线的光掩模图形的光学邻近效应修正步骤如下：首先定出导线图形的电连接区，再进行各项同性放大或朝导线外侧延伸，而成为一放大区。接着从放大区中扣除与导线图形重叠的部分，再扣除超出该导线图形，且与邻近的其他导电层图形过于接近的部分。然后将经过删减的放大区与原导线图形合并，即得到光学邻近效应修正的导线光掩模图形。