首页> 中国专利> 用于形成辐射吸收涂层的含封端的异氰酸酯化合物的组合物和由其形成的抗反射涂层

用于形成辐射吸收涂层的含封端的异氰酸酯化合物的组合物和由其形成的抗反射涂层

摘要

本发明公开了一种用于形成辐射吸收涂层的组合物,该组合物包含一种有机溶剂,一种辐射吸收聚合物或一种溶解于其中的辐射吸收材料及具有封端的异氰酸酯基团的交联剂。由于交联剂的异氰酸酯基团被封端,因此,包含该交联剂的组合物具有优异的稳定性。当将组合物涂敷于基底上并烘烤时,交联反应给出抗反射涂层,其不会与通过涂敷在其上形成的抗蚀剂层相互混合,因而不会发生来自抗蚀剂层的光产酸的扩散。结果,可形成无沉积或浮渣的抗蚀剂图像。

著录项

  • 公开/公告号CN1273590A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2000-11-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 克拉瑞特国际有限公司;

    申请/专利号CN99801068.5

  • 申请日1999-06-23

  • 分类号C08G18/80;C09D175/04;G02B1/10;G03F7/00;

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 瑞士穆滕茨1(CH-4132)茹索茨大街61号

  • 入库时间 2023-12-17 13:46:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-08-26

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2005-04-27

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20050318 申请日:19990623

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移

  • 2004-06-02

    授权

    授权

  • 2002-06-05

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20020403 申请日:19990623

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

  • 2001-08-15

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 2000-11-15

    公开

    公开

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