法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-08-26
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2005-04-27
专利申请权、专利权的转移专利权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20050318 申请日:19990623
专利申请权、专利权的转移专利权的转移
2004-06-02
授权
授权
2002-06-05
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20020403 申请日:19990623
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
2001-08-15
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
2000-11-15
公开
公开
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机译: 用于形成辐射吸收涂层的含嵌段异氰酸酯化合物的组合物和由其形成的抗反射涂层
机译: 用于形成辐射吸收涂层的含嵌段异氰酸酯化合物的组合物和由其形成的抗反射涂层
机译: 用于形成光吸收膜的组合物,其包含封端的异氰酸酯化合物和由其形成的抗反射膜