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一种基于单层石墨烯/绝缘层/硅/多层石墨烯结构的电荷注入器件

摘要

本发明公开了一种基于单层石墨烯/绝缘层/硅/多层石墨烯结构的电荷注入器件,自下而上设有栅极、多层石墨烯、硅衬底、氧化物绝缘层,氧化物绝缘层上表面设有源极和漏极,并覆盖单层石墨烯薄膜;入射光照射到器件表面时,可见光被半导体硅吸收,其产生的少数载流子积累到硅衬底中的深耗尽势阱;红外光穿过硅层被异质结吸收,产生的少数载流子注入到体硅的深耗尽势阱中。器件表面的石墨烯会耦合出与势阱中的空穴对应的等量电子,从石墨烯的电流中能够实时读出硅势阱中的电荷。本发明通过使用多层石墨烯,拓展了传统CCD器件的光谱响应范围,提高了传统CCD器件在红外波段的吸收效果;同时保持了硅基CCD噪声小、可靠性高、工艺成熟、成本低廉等特点。

著录项

  • 公开/公告号CN111599830A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN202010382069.0

  • 申请日2020-05-08

  • 分类号H01L27/148(20060101);

  • 代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人刘静

  • 地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2023-12-17 11:49:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-28

    公开

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