用于组合的X射线反射测量术与光电子光谱术的系统及方法

摘要

本文中呈现用于基于组合x射线反射测量术XRR及x射线光电子光谱术XPS测量半导体结构的结构及材料特性的方法及系统。组合XRR及XPS系统包含由XRI测量子系统及XPS测量子系统两者共享的x射线照明源及x射线照明光学器件。此通过同时收集来自晶片的相同区域的XRR测量数据及XPS测量数据而增加处理量及测量精确性。组合XRR及XPS系统通过采用XRR测量数据以改进由所述XPS子系统执行的测量而改进测量精确性且反之亦然。另外，组合XRR及XPS系统实现XRR测量数据及XPS测量数据两者的同时分析以更精确地估计一或多个所关注参数的值。在进一步方面中，独立地控制测量点大小、光子通量、射束形状、射束直径及照明能量中的任一者。