公开/公告号CN104272192A
专利类型发明专利
公开/公告日2015-01-07
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201380022486.2
申请日2013-05-06
分类号G03F7/20;G02B6/00;H01S5/14;
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-12-17 04:31:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-06-30
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20150107 申请日:20130506
发明专利申请公布后的视为撤回
2015-02-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20130506
实质审查的生效
2015-01-07
公开
公开
机译: 用于改变多个辐射束的特性的组件,光刻设备,用于改变多个辐射束的特性的方法以及器件制造方法
机译: 用于改变多个或辐射束的特性的组件,光刻设备,一种用于改变多个或辐射束的特性的方法以及设备制造方法。
机译: 一种用于修改多个辐射束特性的组件,光刻设备,一种用于修改多个辐射束特性的方法以及一种器件制造方法