法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-10-19
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G06F17/50 申请公布日:20131127 申请日:20130712
发明专利申请公布后的视为撤回
2014-01-22
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20130712
实质审查的生效
2013-11-27
公开
公开
机译: 晶片平坦度评估方法及实施该评估方法的装置;使用评估方法的晶圆生产方法,使用评估方法的晶圆质量保证方法,使用评估方法的半导体器件生产方法以及使用评估方法评估的晶圆的半导体器件生产方法
机译: 晶圆级透镜阵列的形成方法,形成类型,晶圆级透镜阵列以及具有该晶圆级透镜阵列的晶圆级透镜阵列
机译: 增强的晶圆级封装,包括用于降低焊点应力和提高焊点可靠性的核心层