以高沉积速率沉积具有低压应力、高的膜稳定性和低收缩率的原硅酸四乙酯厚膜的方法

摘要

一种用于降低二氧化硅膜后退火收缩率的方法包括：将衬底布置在处理室中的衬底支撑件上；将所述处理室中的压强设置为预定压强范围；将所述衬底支撑件的温度设置为预定温度范围；将处理气体混合物供应到气体分配装置。所述处理气体混合物包括TEOS气体、包含氧物质的气体、以及氩气。所述氩气占所述处理气体混合物体积的超过20％。所述方法还包括激励等离子体并将所述膜沉积在所述衬底上。