利用热丝增强等离子体磁控溅射法制备铁磁非晶膜的方法

摘要

本发明涉及利用热丝增强等离子体磁控溅射法制备铁磁非晶膜的方法，包括以下步骤：1)镀膜前清洗：将基体置于等离子体增强磁控溅射设备的腔体内，抽真空；加热除水蒸汽；清洗靶；2)镀膜：热丝增强等离子体磁控溅射设备的腔体四周缠绕4根灯丝，腔体四壁分别设置矩形靶材，其中一块以上靶材为非晶铁磁薄带；腔体内通入氩气，氩气；打开挡板，开始溅射；镀膜时腔体内的温度为25℃～100℃。本发明将磁控溅射技术应用于制备铁磁非晶膜领域；通过调节加在灯丝上的偏压来提高氩气的离化率及氩离子的轰击速度，进一步提高了膜基结合强度和薄膜的致密性。磁控溅射离子轰击基体，活化基体表面，提高膜层与基体表面之间的结合力。