法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-11
实质审查的生效 IPC(主分类):B43L5/00 申请日:20190814
实质审查的生效
2019-11-26
公开
公开
机译: 光刻术布局设计方法,光刻术布局设计设备以及包含一个或多个命令的计算机可读介质,用于执行光刻术布局设计的一种或多种命令
机译: 根据设计规则,通过使用边距和束宽度移动部件来对电路布局进行补偿的方法,一种使用该方法的设备以及一种使该方法执行的计算机产品使处理器能够执行的方法
机译: 一种生成集成电路布局的方法(IC)设计