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可精确调控纳米级厚度薄膜成膜厚度和面积的制膜方法

摘要

本发明涉及薄膜材料的制备和应用领域,具体是一种可精确调控纳米级厚度薄膜成膜厚度和面积的制膜方法,实现厚度均匀一致的纳米级厚度薄膜材料的高效控制制备。该方法采用旋转离心制膜方法的基本原理,在基体旋转装置的基础上采用具有微小孔径的打印喷头或针头,在恒定成膜液体压力和可控运动轨迹的条件下,将一定量的成膜液体以微细液柱的形式喷射到以一定速率转动着的成膜基体表面,形成厚度、形状及面积可控的均匀液膜,进而通过控制固化条件获得固体的膜材料。该方法可以实现厚度均匀一致的纳米级厚度薄膜材料的高效精确控制制备,可广泛应用于光电器件、储能器件、防护功能涂层、催化材料、复合材料等技术领域。

著录项

  • 公开/公告号CN110274803A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院金属研究所;

    申请/专利号CN201910460855.5

  • 发明设计人 裴嵩峰;韦覃伟;任文才;成会明;

    申请日2019-05-30

  • 分类号G01N1/28(20060101);G01N23/2202(20180101);G01N23/2251(20180101);G01N21/84(20060101);B82Y30/00(20110101);

  • 代理机构21234 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张志伟

  • 地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

  • 入库时间 2024-02-19 13:17:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N1/28 申请日:20190530

    实质审查的生效

  • 2019-09-24

    公开

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