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对曝光后过程进行建模

摘要

提供了一种用以对图案化过程中的曝光后效应进行建模的过程,所述过程包括:利用一个或更多个处理器获得基于通过曝光后过程而形成于一个或更多个衬底上的结构的测量结果的值以及过程条件改变所依据的第一对过程参数的值;利用一个或更多个处理器将基于所述结构的测量结果的值与所述第一对过程参数的值之间的相关性建模为一表面;和利用一个或更多个处理器将所述模型储存于存储器中。

著录项

  • 公开/公告号CN109844643A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201780050780.2

  • 申请日2017-07-27

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王静

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2024-02-19 11:00:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20170727

    实质审查的生效

  • 2019-06-04

    公开

    公开

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