一种水基磁辅助抛光液、制备方法及磁流变抛光液

摘要

本发明涉及光学精密加工制造技术领域，具体公开一种水基磁辅助抛光液、其制备方法以及磁流变抛光液，水基磁辅助抛光液包括以下重量份的原料成分：80～90份去离子水、0.5～1份增稠剂、0.5～1份水基缓蚀剂、1～2份分散剂、2～3份乳化剂、0.5～1份pH调节剂、0.01～0.02份消泡剂、0.05～0.1份防腐剂以及5～10份抛光粉。本发明的水基磁辅助抛光液可以确保抛光粉颗粒长时间的分散稳定性，以及磁粉介质在工作期间不发生锈蚀。本发明水基磁辅助抛光液的制备方法工艺简单，得到的磁辅助抛光液的抛光效率和材料去除稳定性高，并且具有环保、易清洗和循环的优点。