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【24h】

Synchrotron x-ray reflectivity study of oxidation/passivation of copper and211 silicon

机译:同步辐射X射线反射率研究铜和211硅的氧化/钝化

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摘要

Synchrotron x-ray-scattering technique studies of copper and silicon211u001eelectrochemical interfaces are reported. These two examples illustrate the 211u001eapplication of synchrotron x-ray techniques for oxidation, passivation, and 211u001edissolution of metals and semiconductors.

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