Electron beams; Distortion; Computer aided design; Photolithography; Computer programs; Geometry; Algorithms; Exposure(General); Input; Predictions; Dosimetry; Patterns; Scattering; Transverse; Thickness; Substrates; Resistors; Corrections; Computations; Sizes(Dimensio;
机译:电子束光刻中基于简化电子能流模型的3D邻近效应校正
机译:邻近电子光刻技术的进展:使用低能电子束邻近投影光刻技术β的打印和覆盖性能演示
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机译:电子束散射参数提取方法在直写式电子束光刻中的邻近校正中的应用
机译:亚微米电子束光刻的计算机可视化和邻近效应校正
机译:电子束与聚焦离子束光刻技术制备的等离激元天线的比较研究
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造