The University of Manchester (United Kingdom).;
机译:电子束接近印刷—亚微米结构的高速光刻新方法
机译:电子束光刻中基于简化电子能流模型的3D邻近效应校正
机译:邻近电子光刻技术的进展:使用低能电子束邻近投影光刻技术β的打印和覆盖性能演示
机译:电子束散射参数提取方法在直写式电子束光刻中的邻近校正中的应用
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:具有亚微米特性的聚合物bioMEMS的电子束光刻
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造
机译:电子束光刻的邻近效应校正程序