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陈宝钦; 徐秋霞; 谢常青; 刘 明; 赵 珉; 吴 璇; 牛洁斌; 刘 键; 任黎明; 王 琴; 朱效立; 李新涛;
中国电子学会;
电子束光刻技术; 邻近效应校正技术; 电子束直写; 电子散射; 背散射; 纳米器件;
机译:通过电子束光刻技术对50 nm的波带片进行纳米加工,并对X射线成像进行局部邻近效应校正
机译:通过将邻近效应校正与灰度技术相结合,改善了电子束光刻中的CD控制和线边缘粗糙度
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:厚阻膜电子束光刻邻近效应校正技术制备Si光子波导
机译:亚微米电子束光刻的计算机可视化和邻近效应校正
机译:像差校正电子束光刻对悬浮石墨烯器件电子传输的影响的原位研究
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造
机译:电子束光刻的邻近效应校正程序
机译:电子束光刻技术,电子束光刻邻近效应校正方法和记录介质的存储方法
机译:电子束光刻技术中的邻近效应校正
机译:邻近效应校正方法和使用该方法的电子束光刻技术
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