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机译:在In0.82Al0.18As上通过电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积生长的氮化硅膜的界面特性
Interface state; InGaAs; Passivation; ICPCVD; Dark current;
机译:在In0.82Al0.18As上通过电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积生长的氮化硅膜的界面特性
机译:电感耦合等离子体增强化学气相沉积法制备氟化氮化硅膜的组成,氧化和光学性质
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法生长的富硅氮化硅膜的结构和发光特性
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积技术开发低温氮化硅和二氧化硅薄膜
机译:氮化硅膜的热和等离子体增强化学气相沉积
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响