机译:通过极紫外干涉光刻技术在聚合物基材上制备硫醇-烯“可点击”共聚物-刷纳米结构
polyme* r brushes; polymeric materials; click chemistry; nanostructures; EUV lithography; thiol ene; functional surfaces; light-responsiveness;
机译:通过极紫外干涉光刻技术在聚合物基材上制备硫醇-烯“可点击”共聚物-刷纳米结构
机译:通过软X射线干涉光刻在各种基板上制备大面积高纵横比周期性纳米结构
机译:干涉光刻和等离子刻蚀在聚对苯二甲酸乙二酯基底上制备纳米结构
机译:用于极端紫外线干涉光刻的透射光栅的制造
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:用常规的紫外光刻和微细加工技术制备具有窄缝孔的多层聚合物微筛
机译:用常规的紫外光刻和微细加工技术制备具有窄缝孔的多层聚合物微筛
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。