触媒表面反応における中間体の役割-高速表面XAFS法による研究-

摘要

エネルギー分散光と位置分解Auger電子検出に基づく高速表面XAFS法を用いてPt（111）表面におけるN_2O生成反応とRh（111）表面におけるN_2O生成反応のキネテイクス解析を行った．この手法によって，反応が進行する表面上の吸着種被確率の時間変化を調べると，どちらの反応においても，反応進行中に安定な中間体が観測された?これらの反応メカニズムを検討した結風前者の反応では，中間体OHのドメインにおける水素移動がH_2O生成反応の進行に竃要な役割を果たしていること,後者の反応では，中間体(NO)_2が反応precursorとしての役割を果たしていることを見いだした．