机译:193nm浸没式光刻胶中抗蚀剂组分界面传质的研究与控制
mass transfer; leaching; topcoat; immersion lithography;
机译:193nm浸没式光刻胶中抗蚀剂组分界面传质的研究与控制
机译:193nm浸没抗蚀剂的表面特性控制
机译:193nm浸没式光刻的定量图案塌缩计量学
机译:193nm浸没式光刻技术中抗蚀剂组分界面传质的研究与控制
机译:用于台阶和闪光压印光刻的平面化材料的仿真和设计以及界面粘合研究。
机译:人工控制电阻迁移中的铜迁移通过在基于a-COx的导电桥随机访问存储器中使用优化的AlOx界面层来进行突触和葡萄糖/唾液检测
机译:用于193 nm浸没式光刻的非CA抗蚀剂:化学结构对灵敏度的影响