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机译:纳米银粒子用于TSV(硅通孔)互连的盲孔金属填充和衬里形成机理的分析
机译:纳米银粒子用于TSV(硅通孔)互连的盲孔金属填充和衬里形成机理的分析
机译:通过简单的溶液工艺通过硅通孔互连形成金属/电介质衬里
机译:一种新型的中介层的制造和电学特性,该中介层具有用于2.5D / 3D应用的具有超低电阻率的直通硅通孔(TSV)的聚合物衬里和硅柱
机译:氧化物衬里,阻挡层和种子层,以及用于3D IC集成的300mm晶圆上盲孔硅通孔(TSV)的铜镀层
机译:具有受控大小,形状,结构和表面功能的金属颗粒的制备和形成机理。
机译:用银纳米粒子的金属辅助化学蚀刻中孔形成和硅表面纳米结构
机译:微型硅丝的并行磁性组装对硅过孔(TSV)进行高速金属填充