...
机译:193 nm浸没式光刻技术在65 nm节点处自由度对NA /σ依赖性的仿真研究
The Institute of Electrical Engineering of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080;
photolithography; fourier optics; optical systems design; optical devices;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:使用新型高折射率流体对193 nm浸没式光刻技术的研究
机译:用193nm浸没光刻技术模拟45nm半间距节点
机译:浸没式光刻的热流体模拟。
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:193-NM浸入光刻中的气泡诱导光散射效应对图像质量的研究