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机译:用三(叔戊氧基)硅烷醇快速沉积SiO2原子层
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机译:三(叔戊氧基)硅烷醇在二氧化硅快速原子层沉积中催化剂层密度和生长温度的影响
机译:三(叔丁氧基)硅烷醇和三甲基铝快速沉积SiO_2原子层的光学,化学和电学性质研究
机译:使用Ru(EtCp)
机译:使用叔丁基亚氨基三(二乙基氨基)钽金属有机前驱体的Ta基扩散阻挡层的化学气相沉积和原子层沉积
机译:等离子体增强原子层沉积法原位形成SiO2中间层的HfO2 / Ge叠层的界面电和能带对准特性
机译:基于TRIS(二甲基氨基)硅烷前体的SiO2生长速率与金属氧化物底层电阻率的电阻性差异的相关性
机译:原子层沉积法制备TiO2 / siO2催化剂的表面酸性和性质:紫外 - 可见漫反射,DRIFTs和可见拉曼光谱研究